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三星美国泰勒晶圆厂3月测试EUV光刻机,加速2nm GAA工艺部署

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IT之家 1 月 19 日消息,据《韩国经济新闻》今天报道,三星电子将从今年 3 月起在其美国泰勒一号工厂测试 EUV 光刻机,随后陆续引进刻蚀、沉积等设备,计划今年下半年投产。


据业界消息,三星电子已经向德州政府申请工厂的临时使用许可,满足消防、安全条件后可在正式竣工之前投入使用,同时三星为了尽快稳定良率,已向当地派遣大量“王牌级”工程师。

该报记者于 1 月 10 日走访了泰勒工厂,其外观相比一年前已发生巨大变化:建筑周围的塔吊几乎全部撤走,原本空荡的停车场停满了各种品牌的汽车。

当地施工方人士表示:“每天进入工地的人员有大约 7000 名,同时 6 层办公室已有 1000 人开始办公,为下半年投产做准备”。

据悉,泰勒工厂占地约 485 万平方米,超过了韩国本土的平泽工厂(289 万平方米)、华城工厂(157 万平方米)总和,同时三星仅用 4 年时间就完成建设,比在韩国建厂速度还快。

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